製品 光学部品 紫外線/可視光光学素子

ビームスプリッタープリズム

レーザー用高出力偏光ビームスプリッタープリズム

レーザー用高出力偏光ビームスプリッタープリズム

高出力偏光ビームスプリッタープリズムは、高い損傷閾値と優れた消光比が求められる要求の厳しいレーザーシステム向けに設計されています。誘電体コーティングと精密な光学接合を採用したこれらのPBSプリズムは、高出力アプリケーションにおいて安定した偏光分離を実現します。

  • ダメージ閾値 :

    ~15 J/cm² @ 1064 nm, 20 ns, 20 Hz
  • 消光比 :

    > 30 dB @ 1064 nm
  • 伝染 ; 感染 :

    Tp > 97% @ central wavelength ,Tp > 96% @ 355 nm
  • 表面品質 :

    20-10
  • 標準波長範囲 :

    1064 nm ±20 nm (BK7) , 1550 nm ±25 nm (BK7),532 nm ±20 nm (BK7) , 355 nm ±7 nm (UV Fused Silica)
  • 製品詳細

 

製品説明

高出力PBSプリズムは、誘電体ビームスプリッターコーティングを用いて、非偏光または混合偏光のレーザービームを純粋なP偏光成分とS偏光成分に分離します。光軸に沿って透過するビームは高い消光比を持つP偏光成分、反射するビームはS偏光成分であるため、これらの偏光ビームスプリッタープリズムは高出力かつ高コントラストのレーザーシステムに最適です。

 

パフォーマンス上の利点

高エネルギーレーザー操作に適した高い損傷閾値

誘電体ビーム分割コーティングにより安定した偏光分離を実現

クリーンなP偏光出力のための高い消光比

信頼性向上のための光学接触または精密接合構造

単一波長または広帯域設計で利用可能

ご要望に応じてカスタム波長と消光比オプションもご用意

 

適用範囲

高出力レーザーシステム

レーザー増幅とビーム結合

偏光感度光学装置

産業用レーザー加工装置

科学研究用レーザープラットフォーム

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